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主要功能：
高分辨X射线衍射仪配有Gobel反射镜和Ge分析晶体单色器，可获得近平行的入射X射线。能够精确进行半导体单晶和外延层材料的结晶完整性分析，外延层及相应半导体器件结构的组分、厚度、弛豫度等参数的测定，外延结构的晶格失配及应变状态分析，Area Map均匀性分析，倒易空间mapping (RSM)，双轴晶和三轴晶X射线衍射，对称和非对称扫描等多晶薄膜的掠射分析、反射率分析，可以对单晶、薄膜及纳米材料等进行精细的X射线衍射分析。
主要指标：
●X射线发生器：Cu靶，功率3kW，陶瓷光管
●光学附件：Gobel镜、两次反射Ge(022)单晶单色器、四次反射Ge（022）单色器
●扫描方式：θ-θ测角仪
●探测器：LynxEye阵列探测器
●高精度五轴全自动尤拉环：CHI圆，-11°-- 98°；PHI圆，360度 ；X轴平移，80mm ；Y轴平移，80mm；Z轴平移，2mm；
●倾斜样品台：提供Zeta和Xi两个自由度；
●面内衍射部分：可旋转探测器臂，可实现面外(out plane)2theta与面内(in plane)2theta自动切换。
样品要求：
●外延薄膜
●高质量的多晶、单晶多层薄膜 |
