主要功能: 高分辨X射线衍射仪配有Gobel 反射镜和Ge分析晶体单色器,可获得近平行的入射X射线。能够精确进行半导体单晶和外延层材料的结晶完整性分析,外延层及相应半导体器件结构的组分、厚度、弛豫度等参数的测定,外延结构的晶格失配及应变状态分析, Area Map均匀性分析,倒易空间mapping (RSM),双轴晶和三轴晶X射线衍射,对称和非对称扫描等多晶薄膜的掠射分析、反射率分析,可以对单晶、薄膜及纳米材料等进行精细的X射线衍射分析。 主要指标: ● X射线发生器:Cu靶,功率3kW,陶瓷光管 ● 光学附件:Gobel镜、两次反射Ge(022)单晶单色器、四次反射Ge(022)单色器 ● 扫描方式:θ-θ测角仪 ● 探测器:LynxEye阵列探测器 ● 高精度五轴全自动尤拉环:CHI圆,-11°-- 98°;PHI圆,360度 ;X轴平移,80mm ;Y轴平移,80mm;Z轴平移,2mm; ● 倾斜样品台:提供Zeta和Xi 两个自由度; ● 面内衍射部分:可旋转探测器臂,可实现面外(out plane)2theta与面内(in plane)2theta自动切换。 样品要求: ● 外延薄膜 ● 高质量的多晶、单晶多层薄膜 |