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聚焦离子束(FIB-2)

时间:2020-02-22 字体大小:

聚焦离子束扫描电镜(Focused Ion Beam

厂商:Thermo scientific

型号:Helios-G4-CX

参数与指标:

1加速电压:0.2kV—30kVSEM);

          0.5kV30kVFIB);

2、放大倍数:12×—1000,000×SEM);

          300×—500000×FIB);

3、分辨率:电子束0.6nm@15kV(最佳工作距离);

1nm@1kV(非减速模式,最佳工作距离);

离子束:2.5nm@30kV(双束交叉点);

4、束流强度:0.8pA—100nASEM);

          0.1pA—65nAFIB

5X射线能谱探测器:场效应管(FET)的高速SDD探测器;

晶体有效检测面积60mm

元素探测范围:B4~Cf98

主要配件及附件:

GIS气体注入体统(PtC)、EDS能谱仪、Easylift纳米机械手、DBS探头、STEM探头、ICE探头。

特色及用途:

聚焦离子束(FIB)扫描电镜可在纳米尺度利用离子轰击样品表面,实现材料的剥离、沉积、注入等加工工艺,同时还具有扫描电子显微镜(SEM)的成像功能、TEM透射电镜样品制备、薄膜断面样品制备、二次电子成像、背散射电子成像、EDS能谱分析、微纳加工等功能。此台聚焦离子束扫描电镜的特点在于加工束流大,加工时间短,去非晶可选择的加工电压低,最大限度的提高了制样效率,保证了样品本身的信息不被破坏。Easylift纳米机械手稳定性良好,在离子束切割的配合下,可进行各种微纳材料的搬运和加工。

放置地点:C102

联系人:段北晨0574-86685165 

 

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