聚焦离子束扫描电镜（Focused Ion Beam）

厂商：Thermo scientific

型号：Helios-G4-CX

参数与指标：

1、加速电压：0.2kV—30kV（SEM）；

          0.5kV—30kV（FIB）；

2、放大倍数：12×—1000,000×（SEM）；

          300×—500000×（FIB）；

3、分辨率：电子束：0.6nm@15kV（最佳工作距离）；

1nm@1kV（非减速模式，最佳工作距离）；

离子束：2.5nm@30kV（双束交叉点）；

4、束流强度：0.8pA—100nA（SEM）；

          0.1pA—65nA（FIB）

5、X射线能谱探测器：场效应管（FET）的高速SDD探测器；

晶体有效检测面积60mm^２；

元素探测范围：B⁴~Cf⁹⁸

主要配件及附件：

GIS气体注入体统（Pt、C）、EDS能谱仪、Easylift纳米机械手、DBS探头、STEM探头、ICE探头。

特色及用途：

聚焦离子束（FIB）扫描电镜可在纳米尺度利用离子轰击样品表面，实现材料的剥离、沉积、注入等加工工艺，同时还具有扫描电子显微镜（SEM）的成像功能、TEM透射电镜样品制备、薄膜断面样品制备、二次电子成像、背散射电子成像、EDS能谱分析、微纳加工等功能。此台聚焦离子束扫描电镜的特点在于加工束流大，加工时间短，去非晶可选择的加工电压低，最大限度的提高了制样效率，保证了样品本身的信息不被破坏。Easylift纳米机械手稳定性良好，在离子束切割的配合下，可进行各种微纳材料的搬运和加工。

放置地点：C102

联系人：段北晨0574-86685165