|
当前所在位置:首页 > 仪器共享 > 公共技术服务中心仪器介绍 > 微观形貌类 |
聚焦离子束(FIB-1) |
时间:2015-06-10 |
字体大小: |
聚焦离子束(Focused Ion Beam) 厂商:Carl Zeiss 型号:Auriga 参数与指标: 1. 加速电压:0.1V—30KV(SEM); 1-30kv(FIB); 2. 放大倍数:12×—1000,000×(SEM); 300×—500000×(FIB); 3. 分辨率:电子束1.0nm@15kV,1.9nm@1kV; 离子束优于2.5nm@30kV; 4. 探针电流范围:4 pA—20nA(SEM); 1pA—50nA(FIB) 5.X-射线能谱探测器:硅漂移探头;有效探测面积80mm2; 元素探测范围:B(5)~Am(95) 主要配置及附件: GIS气体注入系统(Pt、Water、XeF2、I、C)、EDS能谱仪、OMNI PROBE纳米机械手、inlens探头,ESB探头,NTS BSD探头、STEM探头。 特色及用途: 聚焦离子束(FIB)在扫描电镜(SEM)的基础上,配备了离子束镜筒,可在纳米尺度利用离子轰击样品表面,实现材料的剥离、沉积、注入等加工工艺。它具有聚焦离子束(FIB)的功能外,还具有扫描电子显微镜(SEM)的成像功能。主要功能:TEM透射电镜样品制备—可以选择感兴区,制备相对较大的薄区,同时制备时间相对会缩短。制得的TEM样品可以直接用TEM透射电子显微镜观察,无需其它处理。SEM扫描电子显微镜结构分析—可以进行二次电子形貌分析、背散射称度分析、EDS能谱分析。微纳结构加工—Omniprobe纳米机械手、离子束切割等的配合下,可以进行各种微纳材料的搬运和加工。力学及电学性能测试——通过相应的附件,可以实现微纳结构材料的电学性能测试。 放置地点:测试中心C-102 负责人:张蕾86686165
|
打印本文本 | 收藏本文 | 回到顶部
|
|