聚焦离子束(FIB-1)

聚焦离子束(Focused Ion Beam)

 

 

厂商:Carl Zeiss

型号:Auriga

 

参数与指标:

1.      加速电压:0.1V30KVSEM);

          1-30kvFIB);

2.      放大倍数:12×—1000,000×(SEM);

          300×—500000×(FIB);

3. 分辨率:电子束1.0nm@15kV1.9nm@1kV

离子束优于2.5nm@30kV

4.      探针电流范围:4 pA20nASEM);

              1pA50nAFIB

5.X-射线能谱探测器:硅漂移探头;有效探测面积80mm

元素探测范围:B(5~Am95

主要配置及附件:

    GIS气体注入系统(PtWaterXeF2IC)、EDS能谱仪、OMNI PROBE纳米机械手、inlens探头,ESB探头,NTS BSD探头、STEM探头。

 

特色及用途:

    聚焦离子束(FIB)在扫描电镜(SEM)的基础上,配备了离子束镜筒,可在纳米尺度利用离子轰击样品表面,实现材料的剥离、沉积、注入等加工工艺。它具有聚焦离子束(FIB)的功能外,还具有扫描电子显微镜(SEM)的成像功能。主要功能:TEM透射电镜样品制备可以选择感兴区,制备相对较大的薄区,同时制备时间相对会缩短。制得的TEM样品可以直接用TEM透射电子显微镜观察,无需其它处理。SEM扫描电子显微镜结构分析可以进行二次电子形貌分析、背散射称度分析、EDS能谱分析。微纳结构加工—Omniprobe纳米机械手、离子束切割等的配合下,可以进行各种微纳材料的搬运和加工。力学及电学性能测试——通过相应的附件,可以实现微纳结构材料的电学性能测试。

放置地点:测试中心C-102

负责人:张蕾86686165

 

 
作者:, 日期:2015-06-10