场发射扫描电镜 (Field Emission Scanning Electron Microscope)

厂 商 日本日立公司

型 号 S-4800

到货日期 2007年6月

主要技术指标： 

1、二次电子分辨率：1.0nm (15kV)；2.0nm (1kV)； 催化剂(Pt on C)1.4nm (1kV减速模式) Catalyst(Pt on C)

2、背散射电子分辨率：3.0 nm (15 kV)

3、加速电压：0.5～30kV

4、电子枪：冷场发射电子源

5、放大倍率：30～800,000倍

6、X射线能谱仪的元素分析范围：Be4～U92

主要用途

用于观察材料表面的微细形貌、断口及内部组织，并对材料表面微区成分进行定性和定量分析，主要用途如下： 

1、金属、 陶瓷、混凝土、生物、高分子、矿物、纤维等无机或有机固体材料的断口、表面形貌、变形层等的观察；

2、材料的相分布和夹杂物形态成分的鉴定；

3、金属镀层厚度及各种固体材料膜层厚度的测定；

4、纳米材料及其它无机或有机固体材料的粒度观察和分析 ；

5、进行材料表面微区成分的定性和定量分析。

放置地点：测试中心C113实验室

设备负责人： 管建敏86685106